据telecompaper网6月16日报道，LamResearch宣布，韩国芯片制造商SKHynix已选择Lam的创新干式抗蚀剂制造技术作为先进DRAM芯片生产中两个关键工艺步骤的记录开发工具。

干式抗蚀剂提高了极紫外(EUV)光刻技术的分辨率、生产力和良品率，这是一种用于半导体生产的关键技术。Lam干式抗蚀剂产品组副总裁兼总经理RichardWise说：“Lam的干式抗蚀技术改变了芯片制造业游戏规则。通过在材料层面进行创新解决了EUV光刻技术的最大挑战，为先进的内存和逻辑实现了具有成本效益的扩展。“

全球第二大内存芯片制造商SKHynix打算使用Lam的干式抗蚀剂底层和干式开发工艺进行先进的DRAM图案化制作。